반도체 포토레지스트 g-line, I-line, KrF, ArF, EUV
포토레지스트 노광에 사용되는 빛의 파장대별 종류에 대해 간단히 알아볼거에요 저도 공부중인 내용을 정리한것으로 해당 사이트 링크도 같이 올려드립니다. 1. 광대역 UV, g-라인(435nm), h-라인(405nm) 및 i-라인(365nm) 리소그래피 g-, h- 및 i- 라인이라는 명칭은 고압 수은 (Hg) 램프의 방출 스펙트럼에서 파생됩니다 광대역 UV 파장은 다양한 레지스트, 가장 일반적으로 나프토퀴논디아지드 또는 노볼락을 기반으로 하는 포지티브 레지스트의 노출에 적용됩니다. 그러나 특수 응용 분야를위한 다른 저항 (포지티브, 네거티브, 이미지 반전, 화학적으로 증폭되거나 화학적으로 증폭되지 않음)도 광대역 UV에 노출됩니다. 따라서 광대역 UV 리소그래피는 적용 가능한 레지스트 및 공정이 가장 다양한..
